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工业 扫描电镜和能谱仪的原理与实用分析技术

作者:施明哲 字数:27万字 出版社:电子工业出版社

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本书是介绍扫描电镜和X射线能谱仪原理与应用技术的专业读物,全书共分为上、下两篇。上篇包括第1~9章,主要论述了扫描电镜原理、应用中的操作要点和常见的图像质量问题,以及一些改善图像质量的方法和措施。并列举了几个在电应力和环境应力等作用下的失效电子元器件的分析图例。书中对近年来新推出的可变压力和环境扫描电镜的特点及专用探测器,电镜的真空系统,真空泵的原理、结构、维护、保养等事项,以及电镜对安装场地的要求都进行了介绍,以供读者在规划和安排电镜场地时参考。 下篇包括第10~19章,主要介绍了锂漂移硅[Si(Li)]与硅漂移(SDD)能谱仪的基本原理、结构和使用中的一些实际应用问题。最后还简略地介绍了传统的罗兰圆波谱仪和平行光波谱仪的基本原理和它们各自的特点。附录中收录了真空压力单位的换算表,能谱分析中可能出现的假峰、重叠峰等,以及一些与显微分析有关的标准号及中文名称。

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