作者：石玉龙、闫凤英 字数：9.9万字 出版社：化学工业出版社

本书是作者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，全书共分4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术（包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜），化学气相沉积技术（包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等），硬膜及超硬膜的制备技术（金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等），以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术（包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化、电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容）。本书除了具有一定的理论参考价值外，也具有较为广泛的应用价值，既可作为薄膜材料研究专业科技人员的参考书，也可作为高等院校材料类及相关专业的本科生、研究生教学用书。

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